مبدأ تطبيق الفاعل بالسطح في عامل تنظيف المعادن المائي

2022-10-21 00:53:56

مبدأ تطبيق المادة الخافضة للتوتر السطحي في عامل تنظيف المعادن ذو الأساس المائي هو إضعاف أو تعويض التصاق بقعة الزيت على سطح المعدن من خلال خصائص المادة الخافضة للتوتر السطحي مثل الترطيب والاختراق والاستحلاب والتشتت والذوبان، وتسريع بقعة الزيت لترك السطح المعدني بالطرق الميكانيكية والفيزيائية ودخول محلول الغسيل ليتم استحلابه وتشتيته وتعليقه أو إذابته في المذيلات.

يجب إضافة إضافات غير عضوية مثل مانع التآكل، والمذيبات، ومثبت الرغوة، ومزيل الرغوة، والحشو، وما إلى ذلك عند التنظيف باستخدام المعدن ذو الأساس المائي.

الصيغة: نونيل فينول بولي فينيل كلوريد (20) إيثر 80% حمض الأوليك 8% حمض ثلاثي الأسيتيك أمين 8% حمض البوريك حمض ثلاثي الأسيتيك أميد 8% أسيتات مونوبوتيل 8% سيليكون مزيل الرغوة 0.2% هامش ماء عند الاستخدام، تم تخفيفه إلى 5% ملاحظة: النسبة المئوية أعلاه هي نسبة الكتلة.

سيتم إنتاج كمية كبيرة من الرذاذ الحمضي في عملية التخليل الحمضي، الأمر الذي لن يؤثر على صحة العمال فحسب، بل سيلوث البيئة أيضًا. وفي الوقت نفسه، سيؤدي ذلك أيضًا إلى تآكل المصنع والمعدات. من أجل تحسين تأثير إزالة الصدأ للتخليل الحمضي ومنع التآكل الحمضي الزائد، تتم إضافة المواد الخافضة للتوتر السطحي إلى حمض الكبريتيك أو حمض الهيدروكلوريك في محلول التخليل الحمضي لمنع الضباب الحمضي، وتسريع سرعة التخليل الحمضي ومنع حدوث التآكل الزائد.

يمكن للفاعل بالسطح من الفلور أن يحسن قابلية البلل والنفاذية وانتشار صخور التكوين وسيولة النفط الخام، ويستخدم أيضًا كمادة خافضة للتوتر السطحي في تكنولوجيا الاسترداد الحراري لزيادة تحسين كفاءة إزاحة الزيت. يتم استخدام الرغوة المستقرة بواسطة مادة الفلور الخافضة للتوتر السطحي لتشكيل تدفق خط النفط تحت الأرض لتقليل سيولة السائل المدفوع بالغاز والتحكم فيه. الغاز الدافع هو غاز خامل، ويتم خلط محلول الفلور الخافض للتوتر السطحي مع محلول الهيدروكربون المذبذب أو الأنيوني للتوتر السطحي. تعتبر الرغوة المتكونة بواسطة محلول الرغوة هذا أكثر استقرارًا بكثير من الرغوة المتكونة باستخدام مادة الهيدروكربون الخافضة للتوتر السطحي وحدها عند ملامستها للزيت. المواد الخافضة للتوتر السطحي الفلورية الأكثر ملاءمة هي البيرفلوروبتين والبيتين البيرفلوروسلفونات والبيتين حمض البيرفلوروكربونيك.