يرجع النشاط السطحي العالي للمواد الخافضة للتوتر السطحي إلى قوة جذب فان دير فال الصغيرة بين الجزيئات. إن التوتر المطلوب لجزيئات الفاعل بالسطح للانتقال من المحلول المائي إلى سطح المحلول صغير، مما يؤدي إلى تجمع عدد كبير من جزيئات الفاعل بالسطح على سطح المحلول، مما يشكل امتزازًا سطحيًا قويًا، وهذا النوع من المجمعات ليس لديه تقارب صغير للماء فقط.
ومع ذلك، فإن قدرتها على التوتر السطحي على واجهة الزيت / الماء ليست قوية. على سبيل المثال، عندما يتم دمج الفاعل بالسطح المحتوي على الفلور مع الخافض للتوتر السطحي الهيدروكربوني، يمكن للخافض للتوتر السطحي المحتوي على الفلور أن يمتص بشكل انتقائي على سطح الماء لتقليل التوتر السطحي، في حين يمكن للخافض للتوتر السطحي الهيدروكربوني أن يمتص على واجهة الزيت / الماء، إذا تم تقليل التوتر السطحي، سيتم تحسين قابلية بلل المحلول المائي.
مبدأ تطبيق المادة الخافضة للتوتر السطحي في عامل تنظيف المعادن القائم على الماء هو إضعاف أو تعويض التصاق الزيت على سطح المعدن من خلال خصائص الترطيب والاختراق والاستحلاب والتشتت وإذابة المادة الخافضة للتوتر السطحي، وتسريع خروج الزيت من السطح المعدني والدخول إلى سائل الغسيل بالطرق الميكانيكية والفيزيائية ليتم استحلابه وتشتيته وتعليقه أو إذابته في المذيلات.
يتطلب تنظيف المعادن المعتمد على الماء أيضًا إضافة مواد مساعدة غير عضوية: مانع التآكل، والمذيبات، ومثبت الرغوة، ومزيل الرغوة، والحشو، وما إلى ذلك.
الصيغة: نونيل فينول بولي فينيل كلوريد (20) إيثر 80% حمض الأوليك 8% حمض ثلاثي الأسيتيك أمين 8% حمض البوريك حمض ثلاثي الأسيتات أميد 8% حمض السكسينيك مونوبوتيل إيثر 8% مزيل رغوة السيليكون 0.2% ماء متبقي مخفف إلى 5% عند الاستخدام ملاحظة: النسبة المئوية أعلاه هي نسبة الكتلة.
English
Español
Portugues
Pусский
Français
Deutsch
日本語
한국어
Italiano
Nederlands
Ελληνικά
Polski
ไทย
Tiếng Việt
українська
中文简体
هاتف
تعليق
（0）