ما هي المواد الخافضة للتوتر السطحي ألكيل جليكوسيد شائعة الاستخدام؟

2023-03-31 01:03:51

إن المواد الخافضة للتوتر السطحي جليكوسيد الألكيل شائعة الاستخدام هي بشكل أساسي عوامل اقتران وأحماض دهنية عالية وأملاحها وأحماض عضوية غير مشبعة وسيليكونات. عامل الاقتران هو عامل خافض للتوتر السطحي معدني شائع الاستخدام.

يشير التكتل البلوري إلى ظاهرة تغير البلورات من الحالة السائبة إلى الكتل. التكتل يجعل سيولة جزيئات الكريستال أسوأ، مما يؤثر بشكل مباشر على أداء المنتج. إن إضافة كمية صغيرة من الفاعل بالسطح إلى المحلول أثناء عملية تبلور المنتج يمكن أن يمنع بشكل فعال تكتل المنتج. آلية عملها هي كما يلي: ①يدخل الفاعل بالسطح إلى نظام التبلور ويشكل طبقة تغليف على سطح البلورة، مما يخلق تأثير عزل ميكانيكي بين حبيبات البلورة؛ ②يمتص على سطح البلورة ليشكل طبقة كارهة للماء، مما يمنع تبادل الرطوبة بين البلورة والغلاف الجوي؛ ③يقلل التوتر السطحي للمحلول من تغيير زاوية التلامس بين المادة الصلبة والسائلة، مما يقلل من قوة الامتزاز الشعري للبلورة إلى المحلول؛ ④ يشارك في عملية إنتاج البلورات، ويغير معدل النمو النسبي لكل مستوى بلوري، ويحسن عادة تبلور الجزيئات، ويقلل من طاقة الواجهة البلورية. وبالتالي تغيير الشكل البلوري. على سبيل المثال، يمكن استخدام سلفونات الألكيل وكلوريد سلفونيل الألكيل الوسيط، وسلفونات ألكيل بنزين، وسلفونات التولوين الصوديوم، وحمض الصوديوم الدهني، وما إلى ذلك كعوامل مضادة للتكتل للمنتجات البلورية.

التعديل الكيميائي السطحي هو طلاء سطح الجسيم جزئيًا عن طريق التفاعل الكيميائي أو الامتزاز الكيميائي بين العامل النشط السطحي وسطح المسحوق غير العضوي لجعل سطح الجسيم عضويًا، وذلك لإكمال تعديل السطح.

تمت معالجة جزيئات SiC متناهية الصغر باستخدام البولي إيثيلين جلايكول الفاعل بالسطح، وتم تعديل السلاسل الجزيئية للبولي إيثيلين جلايكول على سطح جزيئات SiC، والتي كانت بمثابة حاجز استاتيكي ومنع إعادة تكتل جزيئات SiC الصلبة. بعد معالجة الشكل غير المنتظم أو مسحوق SiC المتكتل باستخدام المادة الخافضة للتوتر السطحي، يتم امتصاص السلسلة الجزيئية الطويلة من المادة الخافضة للتوتر السطحي على عيوب سطح الجسيمات والروابط المتدلية، مما يسرع تفكك الجزيئات الكبيرة أو الجزيئات المكتلة، وهو أمر مفيد لتحسين تشتت جزيئات SiC.

باستخدام حمض الأديبيك وحمض دهني لتعديل سطح مسحوق الزركونيا النانوية، أظهرت النتائج أن مجموعة الكربوكسيل (—COOH) في حمض الأديبيك وحمض دهني ومجموعة الهيدروكسيل (—OH) على سطح جزيئات الزركونيا النانوية حدث تفاعل استرة مشابه للحمض والكحول، وتشكل فيلم أحادي الجزيئي على السطح، وتغير مسحوق الزركونيا النانوي المعدل السطح من القطبي إلى غير القطبي. في الوقت نفسه، نظرًا لامتصاص الفيلم أحادي الجزيئي على سطح المسحوق، تقل قوة التفاعل بين المساحيق (بما في ذلك القوة بين الجزيئات وقوة المفصلة الميكانيكية)، أي مقاومة الاحتكاك عند تقليل تدفق المسحوق، وبالتالي تحسين سيولة المسحوق. .